等離子體刻蝕和LPCVD 真空泵常用那種類型

   時間:2017-11-14 16:05:13
等離子體刻蝕和LPCVD 真空泵常用那種類型簡介
傳統採用的一般是水環式真空泵和旋片式真空泵,水環真空泵對氣體介質要求低,但是體積較大,效率低且維護量大。漸漸的在光伏光電子行業已經淡出。旋片真空泵體積小,造價很低,但是運行不穩定,會帶來油污污染,且存在明顯機械摩擦,葉片損壞較快,氣量衰減快…
等離子體刻蝕和LPCVD 真空泵常用那種類型正文

傳統採用的一般是水環式真空泵和旋片式真空泵,水環真空泵對氣體介質要求低,但是體積較大,效率低且維護量大。漸漸的在光伏光電子行業已經淡出。旋片真空泵體積小,造價很低,但是運行不穩定,會帶來油污污染,且存在明顯機械摩擦,葉片損壞較快,氣量衰減快。近年有很多實力強的企業已經開始採用一些品質好的螺桿真空泵代替傳統真空泵,螺桿真空泵運行較穩定,系統內有油污處理設備,維護周期長。缺點是國內的螺桿真空泵廠家質量還不過硬,國外產品價格較高,一次投資大。所以新建企業由於投資問題都選用便宜的旋片真空泵,在投產形成利潤后很多漸漸選用螺桿真空泵進行技改。

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